[求助]基于面光源的光學(xué)元件熱分析 [復(fù)制鏈接]

問(wèn)個(gè)問(wèn)題，我設(shè)計(jì)了一個(gè)面光源，給他定義了40w，想計(jì)算一下我的光學(xué)元件的受熱分析 :Of^xj>
A  
不知道tracepro怎么實(shí)現(xiàn)，為什么我改變光源的瓦數(shù)，強(qiáng)度圖沒(méi)有變化呢 lhqg$lb  
還有就是，光學(xué)元件在沒(méi)有光照射的時(shí)候應(yīng)該保持環(huán)境溫度吧，當(dāng)有光入射時(shí)，光學(xué)元件的溫度也應(yīng)該是隨時(shí)間變化的吧，在tracepro中能不能實(shí)現(xiàn)，怎樣實(shí)現(xiàn)呢 9Gnc9_]I;W  
希望有人能回答我，多謝

改變光源瓦數(shù)變化,雖然強(qiáng)度圖沒(méi)有變,但是數(shù)據(jù)應(yīng)該變了.你可以改變光線條數(shù),看看. ui/a|Q  
要進(jìn)行熱分析比較麻煩吧,沒(méi)有做過(guò),估計(jì)要使用溫度分布方面的設(shè)置吧.

受熱分析，在TP里面只有分析光學(xué)元件的面了——通過(guò)這些面收集到的光線的信息。。。 X:nN0p #  
Ezd_`_@R  
改變瓦數(shù)而不改變光學(xué)結(jié)構(gòu)，那么結(jié)構(gòu)的光學(xué)規(guī)律也沒(méi)改變，所以強(qiáng)度圖的分布依然不變，只是數(shù)字改變了。。。 woGAf)vV#  
@~"h62=] -  
TP里面沒(méi)有時(shí)間參數(shù)，它的模擬只是一個(gè)描光的過(guò)程，得到的模擬結(jié)論只是在描光模擬完成的瞬間的結(jié)果，或是一個(gè)持續(xù)穩(wěn)定發(fā)光的結(jié)果。。。

那它顯示的圖形是指系統(tǒng)穩(wěn)定后，還是穩(wěn)定前的一個(gè)瞬間呢

穩(wěn)定后的，但是這個(gè)圖形與其實(shí)與實(shí)際的結(jié)果還是有一些誤差的，這取決于光線的數(shù)目，因?yàn)門(mén)P自動(dòng)把光源的能量分配到每條光線，因此描光數(shù)量越多誤差越小。

誰(shuí)能幫我詳細(xì)的解釋一些從下面圖中都能看出我的光學(xué)系統(tǒng)的什么特點(diǎn)呀

下面是引用kuailezj于2005-10-21 18:32發(fā)表的: Elcj