[求助]基于面光源的光學元件熱分析 [復制鏈接]

問個問題，我設計了一個面光源，給他定義了40w，想計算一下我的光學元件的受熱分析 +Xemf?  
不知道tracepro怎么實現(xiàn)，為什么我改變光源的瓦數(shù)，強度圖沒有變化呢 $5*WLG&AK  
還有就是，光學元件在沒有光照射的時候應該保持環(huán)境溫度吧，當有光入射時，光學元件的溫度也應該是隨時間變化的吧，在tracepro中能不能實現(xiàn)，怎樣實現(xiàn)呢 -UD\;D?$  
希望有人能回答我，多謝

改變光源瓦數(shù)變化,雖然強度圖沒有變,但是數(shù)據(jù)應該變了.你可以改變光線條數(shù),看看. |P%DkM*X  
要進行熱分析比較麻煩吧,沒有做過,估計要使用溫度分布方面的設置吧.

受熱分析，在TP里面只有分析光學元件的面了——通過這些面收集到的光線的信息。。。 U~ck!\0&T  
#jxe%2'Ot  
改變瓦數(shù)而不改變光學結構，那么結構的光學規(guī)律也沒改變，所以強度圖的分布依然不變，只是數(shù)字改變了。。。 N+y&,N,  
m2v'WY5u  
TP里面沒有時間參數(shù)，它的模擬只是一個描光的過程，得到的模擬結論只是在描光模擬完成的瞬間的結果，或是一個持續(xù)穩(wěn)定發(fā)光的結果。。。

那它顯示的圖形是指系統(tǒng)穩(wěn)定后，還是穩(wěn)定前的一個瞬間呢

穩(wěn)定后的，但是這個圖形與其實與實際的結果還是有一些誤差的，這取決于光線的數(shù)目，因為TP自動把光源的能量分配到每條光線，因此描光數(shù)量越多誤差越小。

誰能幫我詳細的解釋一些從下面圖中都能看出我的光學系統(tǒng)的什么特點呀

下面是引用kuailezj于2005-10-21 18:32發(fā)表的: f