對(duì)于高平行度透/反射類元件，在布儒斯特角或者正入射情況下檢測(cè)時(shí)會(huì)出現(xiàn)因?yàn)楹蟊砻娑啻畏瓷涠a(chǎn)生的自
干涉條紋問題，形成多組自干涉條紋，測(cè)試干涉條紋和自干涉條紋相互疊加。在測(cè)試的干涉條紋中帶有很明顯的自干涉條紋，造成最終的檢測(cè)波面出現(xiàn)數(shù)據(jù)的丟失，會(huì)嚴(yán)重影響到面形的計(jì)算。
l&ueD& *4& (N9-YP?qm 為了防止檢測(cè)時(shí)候自干涉條紋的產(chǎn)生，一般都在加工時(shí)候使
光學(xué)元件前后兩個(gè)面的楔角大于1′，這樣就能防止后表面的多次反射產(chǎn)生的影響，但是對(duì)于一些特殊要求的
光學(xué)元件，平行度要求都比較高（優(yōu)于20″或更�。�，這就要求通過合適的檢測(cè)方法來解決自干涉條紋的問題。
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L[ 對(duì)于反射類的高平行度光學(xué)元件，檢測(cè)的時(shí)候可以在后表面涂凡士林，可以防止自干涉條紋的影響，但是對(duì)于透射/反射類
鍍膜元件，后表面涂凡士林會(huì)對(duì)表面的質(zhì)量造成污損，所以無法采用這種方法進(jìn)行檢測(cè)。
o1ZVEvp !0,q[|m Zygo干涉儀中的多表面傅里葉變換移相干涉方法(FTPSI)可以區(qū)分面形的測(cè)量（
波長(zhǎng)移相干涉儀中），從多組條文中解包出待測(cè)面形。但對(duì)對(duì)待測(cè)元件的入射
角度、元件的平行度和厚度有特殊要求，在我們檢測(cè)過程中有些元件也無法測(cè)量。這種測(cè)量方法的好處還可以測(cè)量平行度比較好的
材料光學(xué)均勻性，具體測(cè)量方法可參見附件zygo說明書。
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VeriFire MST PSurf and PHom Application Manual 0486_B.rar (1270 K) 下载次数:29 <?KPyg2 }ssV"5M 4D公司的FizCam2000動(dòng)態(tài)干涉儀采用短相干
光源，工作波長(zhǎng)為658nm，通過調(diào)整其延遲光路（光程的匹配ΔL），可以實(shí)現(xiàn)定位干涉，即可以選定被測(cè)表面對(duì)其進(jìn)行精確測(cè)量。其光源相干長(zhǎng)度約300um, 對(duì)于厚度大于0.3mm的平行平板，可以避免后表面多次反射而產(chǎn)生的自干涉條紋，進(jìn)行有效精確地測(cè)量。
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