[原創(chuàng)]高平行度光學(xué)元件表面面形測量方法 [復(fù)制鏈接]

對于高平行度透/反射類元件，在布儒斯特角或者正入射情況下檢測時會出現(xiàn)因為后表面多次反射而產(chǎn)生的自干涉條紋問題，形成多組自干涉條紋，測試干涉條紋和自干涉條紋相互疊加。在測試的干涉條紋中帶有很明顯的自干涉條紋，造成最終的檢測波面出現(xiàn)數(shù)據(jù)的丟失，會嚴重影響到面形的計算。 /;]B1T7  
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為了防止檢測時候自干涉條紋的產(chǎn)生，一般都在加工時候使光學(xué)元件前后兩個面的楔角大于1′，這樣就能防止后表面的多次反射產(chǎn)生的影響，但是對于一些特殊要求的光學(xué)元件，平行度要求都比較高（優(yōu)于20″或更小），這就要求通過合適的檢測方法來解決自干涉條紋的問題。 E:LQ!