對(duì)于高平行度透/反射類元件,在布儒斯特角或者正入射情況下檢測(cè)時(shí)會(huì)出現(xiàn)因?yàn)楹蟊砻娑啻畏瓷涠a(chǎn)生的自
干涉條紋問題,形成多組自干涉條紋,測(cè)試干涉條紋和自干涉條紋相互疊加。在測(cè)試的干涉條紋中帶有很明顯的自干涉條紋,造成最終的檢測(cè)波面出現(xiàn)數(shù)據(jù)的丟失,會(huì)嚴(yán)重影響到面形的計(jì)算。
,$oz1,Q/ ?xTdL738 為了防止檢測(cè)時(shí)候自干涉條紋的產(chǎn)生,一般都在加工時(shí)候使
光學(xué)元件前后兩個(gè)面的楔角大于1′,這樣就能防止后表面的多次反射產(chǎn)生的影響,但是對(duì)于一些特殊要求的
光學(xué)元件,平行度要求都比較高(優(yōu)于20″或更。,這就要求通過合適的檢測(cè)方法來解決自干涉條紋的問題。
7 'B9z/ x<=<Lx0B; 對(duì)于反射類的高平行度光學(xué)元件,檢測(cè)的時(shí)候可以在后表面涂凡士林,可以防止自干涉條紋的影響,但是對(duì)于透射/反射類
鍍膜元件,后表面涂凡士林會(huì)對(duì)表面的質(zhì)量造成污損,所以無法采用這種方法進(jìn)行檢測(cè)。
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