X射線與極紫外XUV光譜儀

X射線與極紫外XUV光譜儀 #txE=e"&o  
像差校正平場入射X射線光譜儀，光譜范圍可涵蓋1-80nm.模塊化設(shè)計，可以滿足不同的實驗條件和環(huán)境。 bef_rH@`  
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技術(shù)參數(shù) AP77a*@8  

波長范圍  ;s`sn$@	5-20 5[0 O'%$	10-60 h3LE>}6D	25-80 8V^oP]Y
光源距離（m） &e6CJ	b2b^1{@h;v	0.4-0.6 P:30L'.=[	0.5-1.5 1$M@]7e+!+
平場尺寸（mm） Fa'k0/_j	25.4 ):i&`}SY	50 d&ex5CU5	50 L#E] BY
色散(nm/mm) oE#d ,Z	0.5-0.7 rM'=_nmi	0.7-1.1 1pArZzm>	0.9-1.3 ='`/BY(m[
光譜分辨率（nm） {&jb5-*f	0.06  IiY/(N+J	0.09 #Q2Y&2`yGT	0.11 T:5fc2Ngv
1P~X8=9h	su*'d:L	UK<Nj<-'t	g!rQ4#4
升級波長范圍 /YZr~|65	將來可拓展至1-15nm(僅需搭配該范圍光柵) c-B cA
探測器選擇 $0vb ^	X-Ray 相機，MCP探測器，fiber taper系統(tǒng) {zMU#=EC
光柵臺 !o:f$6EA~C	電控 {phNds%
工作環(huán)境 1v71rf&w	<10-6mbar bD/~eIcWL
操作性 Y;?{|	極易安裝使用，用戶自己即可安裝使用 9I6 a"PGDb

• mIK7p6  
技術(shù)優(yōu)勢介紹： eEuvl`&  
光源可以直接成像/超強信號采集能力 zd@m~V  
相比于傳統(tǒng)的裝置，我們的XUV光譜儀不需要入射光闌，所以光源信號可以直接進(jìn)入探測器。超過80%的入射信號能被收集和探測，通光效率提高了15-25倍。 \ExMk<y_&  
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-平場成像技術(shù) Tj:B!>>  
我們的儀器基于高性能色差校正的平場光柵技術(shù)。不同于傳統(tǒng)光柵，所有波長聚焦于一個平面而非圓狀形。這將提高光譜分辨率 0*f)=Q'  
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緊湊/模塊化 vEJWFoeEFm  
光譜儀非常緊湊，能輕松與真空腔裝置栓接。本身具有高穩(wěn)定性，無需光學(xué)平臺，無外置式可移動部件。盡管非常緊湊，該光譜儀卻能保持高性能，具有諸多配置靈活性（源距離、光譜范圍、探測器種類、真空泵等） wne,e's}   
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結(jié)實耐用無需準(zhǔn)直 I}1NB3>^  
光譜儀的緊湊式設(shè)計使得能夠抵抗環(huán)境擾亂（震動、聲音等）。無外接可移動部件，閉環(huán)伺服控制的光柵轉(zhuǎn)臺確保絕對位置監(jiān)控增強了結(jié)實耐用性。此外，無入射狹縫設(shè)計使儀器較少受外部環(huán)境干擾。在入射光闌處沿色散方向失調(diào)，將會導(dǎo)致超過20%信號下降 '<"s \,  
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- 定制化 RW<D<5C  
該XUV光譜儀可以按照客戶要求定制化�？梢試�(yán)格匹配客戶研究與應(yīng)用。 )h7<?@wv&  
這包括與實驗倉的耦合、源距離的的搭配、集成客戶提供的探測器、用戶選定的濾光片以及支架、非磁儀器、特殊環(huán)境等 vSEuk}pk  
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典型客戶： D]zwl@sRX:  

1. < >The Institute of Electronic Structure and Laser of the Foundation for Research and Technology-Hellas (IESL-FORTH) <0Xf9a8>  
   
2. < >Los Alamos ;lE%M  
   
3. Max Planck Institute

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