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    [分享]光學(xué)元件拋光亞表面損傷實(shí)驗(yàn)研究 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2014-06-13
    摘要：設(shè)計(jì)光學(xué)元件拋光亞表面損傷檢測(cè)實(shí)驗(yàn)，使用原子力顯微鏡(AFM)檢測(cè)傳統(tǒng)拋光亞表面塑性劃痕與磁流變拋光亞表面塑性劃痕的最大深度，通過(guò)比較驗(yàn)證磁流變拋光對(duì)亞表面塑性劃痕的抑制能力;同時(shí)利用二次離子質(zhì)譜儀的深度剖析功能檢測(cè)磁流變拋光石英樣件后表面水解層的深度，指出磁流變拋光屬于低損傷性拋光技術(shù)。 =l43RawAmu  
    -orRmn6}  
    關(guān)鍵詞：磁流變拋光；傳統(tǒng)拋光；亞表面損傷
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    學(xué)習(xí)學(xué)習(xí). )9`HO?