Vistec Lithography與華中科技大學(xué)光電工程學(xué)院簽署戰(zhàn)略合作協(xié)議

電子束光刻系統(tǒng)的知名廠商Vistec Lithography公司近日宣布他們與中國武漢華中科技大學(xué)光電工程學(xué)院簽署了戰(zhàn)略合作伙伴協(xié)議。武漢華中科技大學(xué)是大陸國家級重點(diǎn)院校之一，而Vistec Lithography則是電子束光刻設(shè)備的領(lǐng)先廠商，按協(xié)議規(guī)定，兩家將在納米光刻技術(shù)研究和教學(xué)領(lǐng)域開展合作。 SM
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這次合作的核心是Vistec公司提供給華中科技大學(xué)的EBPG5000pES電子束光刻系統(tǒng)，裝備這套系統(tǒng)之后，華中科技大學(xué)在教學(xué)，科研以及對外合作方面的實(shí)力將如虎添翼。華中科技大學(xué)稱：“裝備這種新型光刻系統(tǒng)之后，我們在光電領(lǐng)域的技術(shù)實(shí)力將大為增強(qiáng).” qr[+^*Ha  
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電子束光刻設(shè)備可用于制作光掩膜或進(jìn)行無需光掩膜的電子束直寫光刻，直接在半導(dǎo)體材料上用電子束刻制所需的電路版圖。