MEMS的課程論文,寫得比較認(rèn)真,希望對(duì)大家有用^_^ 傳上來掙點(diǎn)分…… L"!ZY
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本文主要對(duì)具有代表性的三維結(jié)構(gòu)——針形陣列的多種制造工藝作出介紹。包括: #3yw
1、移動(dòng)掩模深X射線光刻(Moving mask deep X-ray lithography,M2DXL)技術(shù) Vy^yV|`v
2、改變X射線入射方向的二次曝光方法 FEZ"\|I|
3、水平型正交橫截面技術(shù)(Plane-pattern to cross section transfer,PCT) =l2Dm
4、X射線灰色掩模技術(shù) J2<
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并對(duì)最新的制造方法:X射線灰色掩模(X-ray gray mask)光刻技術(shù)做詳細(xì)介紹。