MEMS的課程論文,寫得比較認(rèn)真,希望對大家有用^_^ 傳上來掙點分…… `qwBn=
#Rr%:\*
本文主要對具有代表性的三維結(jié)構(gòu)——針形陣列的多種制造工藝作出介紹。包括: %N_%JK\{@
1、移動掩模深X射線光刻(Moving mask deep X-ray lithography,M2DXL)技術(shù) *gz{.)W
2、改變X射線入射方向的二次曝光方法 |vzl. ^"-
3、水平型正交橫截面技術(shù)(Plane-pattern to cross section transfer,PCT) pmYHUj
#
4、X射線灰色掩模技術(shù) K"@M,8hb
并對最新的制造方法:X射線灰色掩模(X-ray gray mask)光刻技術(shù)做詳細(xì)介紹。