MEMS的課程論文,寫得比較認真,希望對大家有用^_^ 傳上來掙點分…… 6G7+&g`
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本文主要對具有代表性的三維結構——針形陣列的多種制造工藝作出介紹。包括: _o? I=UN2:
1、移動掩模深X射線光刻(Moving mask deep X-ray lithography,M2DXL)技術 fLZ mQO
2、改變X射線入射方向的二次曝光方法 xM=?ES
3、水平型正交橫截面技術(Plane-pattern to cross section transfer,PCT) ,0f^>3&n>e
4、X射線灰色掩模技術 sGG
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并對最新的制造方法:X射線灰色掩模(X-ray gray mask)光刻技術做詳細介紹。