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光學(xué)表面檢測的理論依據(jù)
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光學(xué)表面檢測的理論依據(jù)
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易水河
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樓主
發(fā)表于: 2007-08-25
各位大俠:
&'|bZms g
在光學(xué)冷加工車間來判斷光學(xué)表面是否符合要求,一般采用擠壓法來判斷。
X$st{@}ZB
在有些書中用平面干涉儀來判斷。見附件圖示。請問,這種根據(jù)干涉條紋的形狀判斷待測面是凸還是凹有什么理論依據(jù)?
J\ 3~
謝謝!
附件:
利用平面檢測儀檢測光學(xué)表面.rar
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zcg_hit
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lblovegf
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發(fā)表于: 2007-09-20
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一休
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4樓
發(fā)表于: 2007-10-29
好好看看物理光學(xué)中的 干涉原理啊、、、
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tianya9699
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5樓
發(fā)表于: 2007-11-05
干涉就是這樣形成的。
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leeyan
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發(fā)表于: 2007-11-28
就是看高低光圈嘛
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ddm
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7樓
發(fā)表于: 2007-11-28
這個(gè)純粹是干涉原理 , 與待測物是凹是凸 , 并沒有差異 .
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anttyzhou
UID:60625
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8樓
發(fā)表于: 2007-11-28
光線照射到B面上時(shí),由于是凹面,光程長,為了等光程,只有向d0較小的方向偏移.因此展現(xiàn)出了上圖的彎曲.
k${25*M!3
同理,如果B面是凸面,光程短,為了等光程,只有向d0較大的方向偏移.因此展現(xiàn)出了(b)圖的條紋
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xiaonaigao
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9樓
發(fā)表于: 2008-01-19
看看先
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