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摘要 oFDz;6 t9^A(Vh"- 干涉測量是一種光學(xué)計(jì)量的重要技術(shù)。 它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓,缺陷,機(jī)械和高精度熱變形等領(lǐng)域的測量。 作為一個(gè)典型的例程,在非序列場追跡的幫助下,我們在VirtualLab Fusion中建立了具有相干激光源的馬赫-曾德爾干涉儀,本案例清楚地展示了光學(xué)元件的傾斜和移位對干涉條紋圖案的影響。 QJn`WSw$_- EH
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