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摘要 Z
~9N gJxVU41 干涉測量是一種光學(xué)計量的重要技術(shù)。 它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓,缺陷,機(jī)械和高精度熱變形等領(lǐng)域的測量。 作為一個典型的例程,在非序列場追跡的幫助下,我們在VirtualLab Fusion中建立了具有相干激光源的馬赫-曾德爾干涉儀,本案例清楚地展示了光學(xué)元件的傾斜和移位對干涉條紋圖案的影響。 SU'9+=_$ D,j5k3< # 建模任務(wù) 7 !.8#A': {Yk20Zn emB D@r 元件傾斜引起的干涉條紋 _ICDtG^ b6Hk20+B; UMwMXmZNJ 元件移位引起的干涉條紋 *UoHzaIqz $-?5Q~
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