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摘要 *gwlW/%Fz +Pl)E5W!=` TUnAsE/J& ):G%o 干涉測(cè)量法是一項(xiàng)用于光學(xué)測(cè)量的重要技術(shù)。它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓、缺陷、機(jī)械和熱變形的高精度測(cè)量。作為一個(gè)典型示例,在非序列場(chǎng)追跡技術(shù)的幫助下,于 VirtualLab Fusion中建立了具有相干激光源的馬赫-澤德干涉儀。該例證明了光學(xué)元件的傾斜和位移對(duì)干涉條紋圖的影響。 UXBWCo;- metn& 建模任務(wù) vYV!8o.I uAA2G\3 M/p9 I
gp ,yGbMOV 由于組件傾斜引起的干涉條紋
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