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摘要 "WqM<kLa :~p_(rE 高數(shù)值孔徑物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微鏡等。因此,在聚焦模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場追跡分析。 通過光場追跡,可以清楚地展示不對稱焦斑,這源于矢量效應(yīng)。 照相機探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性,并且可以深入了解矢量效應(yīng)。 1(kd3qX w_YY~Af (CE2]Nv9") #Z]<E6<=9 建模任務(wù) !9^GkFR6n YGi_7fTyc= ktv{-WG2_ eXdH)|l,\ 入射平面波
K4^B
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