高NA(數(shù)值孔徑)物鏡常用于光學(xué)顯微及光刻,并已廣泛在其他應(yīng)用中得以使用。眾所周知,在高數(shù)值孔徑物鏡的使用中,電磁場矢量特性的影響是不可忽略的。一個眾所周知的例子就是由高NA(數(shù)值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓光束時,焦斑的不對稱性:焦斑不再是圓的,而是拉長的。我們通過具體的物鏡實例來說明了這些效應(yīng),并演示了如何在VirtualLab Fusion中使用不同的探測器分析焦斑。 BL?Bl&p(
p;k7\7 高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦分析
co-dq\P 高數(shù)值孔徑(NA)物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微系統(tǒng)等。在對焦斑的模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。 @GrQ/F7
8n`O{8:fi 高數(shù)值孔徑(NA)物鏡系統(tǒng)的先進點擴散函數(shù)計算
Tu*"+*r>s 當(dāng)線性偏振高斯光束經(jīng)高數(shù)值孔徑(NA)非球面透鏡聚焦時,由于矢量效應(yīng),焦平面上的PSF呈現(xiàn)非對稱性。 \cKY{(E pjVF^gv,*