[技術]二元光柵設計流程 [復制鏈接]

具有直壁或傾斜側壁的二元光柵已成為許多光學應用中的關鍵部件。 感謝納米壓印技術，使小尺寸的光柵的制造已經變得可行。 VirtualLab Fusion采用內置的傅里葉模態(tài)方法（FMM，也稱為RCWA）和不同的優(yōu)化算法，為二元光柵提供了完整的用戶友好的設計工作流程，和隨后的制造誤差分析，如圓邊效應。 t9f4P^V`  
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高效偏振無關透射光柵的分析與設計 (IoPU+1b  
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我們演示了如何嚴格分析二元光柵的偏振相關特性; 以及如何優(yōu)化二元結構以獲得高偏振無關的衍射效率。 XoH[MJC  
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傾斜光柵的參數(shù)優(yōu)化與公差分析 Dvq*XI5  
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