培訓(xùn) | Ansys Zemax 照明設(shè)計(jì)與雜散光分析線下課程即將開班

發(fā)布:ueotek 2024-03-11 10:25 閱讀:241

為適應(yīng)我國(guó)光電行業(yè)飛速發(fā)展的需要,提高我國(guó)光學(xué)設(shè)計(jì)人員的專業(yè)水平,武漢宇熠將在2024年3月20日-22日舉辦線下培訓(xùn) —— 『Ansys Zemax 照明設(shè)計(jì)與雜散光分析』。

培訓(xùn)將為大家系統(tǒng)性地介紹非序列模式的建模邏輯、光源建模、優(yōu)化方法、雜散光分析等主題。

培訓(xùn)日程和內(nèi)容  

Ansys Zemax 照明設(shè)計(jì)與雜散光分析
2024年3月20日-22日
課時(shí)第一天第二天第三天
0101 課程介紹;

02 非序列光線追跡;

03 光源物體;

04 探測(cè)器物體;

17 拋物面反射器;

18 Sobol 采樣;19 BMP 位圖優(yōu)化;

20 復(fù)合拋物面聚光器 CPC;

33 故障排查:光線追跡中止條件;

34 故障排查:幾何錯(cuò)誤;

35 “Inside of”標(biāo)識(shí);36 故障排查:膠合距離;

0205 分辨率 VS 噪聲;

06 照明單位 & 幾何量;07 光源建模;

08 光源建模:IESNA & EULUMDAT 模型;

21 背光模組 物體陣列 & 光源陣列];

22 復(fù)雜幾何體;

23 嵌套規(guī)則;

24 原生布爾物體和布爾 CAD 物體;

37 故障排查:面元物體 & 繪圖精度;

38 序列模式轉(zhuǎn)換成非序列模式;

39 雜散光分析介紹;40 散射;

12:00-14:00 午休時(shí)間
0309 光源建模:內(nèi)置幾何模型;

10 光源建模:使用測(cè)量數(shù)據(jù);

11 生成 Source Model 光線;

12 模擬光源光譜;

25 CAD 導(dǎo)入 & 導(dǎo)出;

26 使用混合模式;

27 偏振光線追跡;

28 物體屬性:面分組 & 屬性;

41 雜散光分析工具;

42 Marksutov 雜散光分析43 非序列鬼像分析;

44 非序列系統(tǒng)公差分析;

04

13 色度學(xué);14 建模彩色光源;

15 測(cè)量顏色數(shù)據(jù);

16 照明系統(tǒng);

29 光線分裂;30 X-Cube 棱鏡;

31 簡(jiǎn)單光線分裂實(shí)例;

32 非序列設(shè)置;

45 答疑與交流討論

培訓(xùn)信息

  • 主辦單位:武漢宇熠科技有限公司
  • 培訓(xùn)主題:Ansys Zemax 照明設(shè)計(jì)與雜散光分析
  • 培訓(xùn)形式:線下培訓(xùn)
  • 培訓(xùn)地點(diǎn):湖北武漢
  • 培訓(xùn)時(shí)間:2024年3月20~22日 (9:00-17:00)
  • 培訓(xùn)費(fèi)用:¥ 3980元 / 人
  • (三人及以上組團(tuán)報(bào)名可享八折優(yōu)惠)、
  • 報(bào)名方式:點(diǎn)擊這里報(bào)名  

注意

1、本次培訓(xùn)統(tǒng)一發(fā)送配套的培訓(xùn)教材。

2、學(xué)員自備筆記本電腦,培訓(xùn)結(jié)束后將為每位學(xué)員頒發(fā)培訓(xùn)證書。

3、為提高培訓(xùn)效率,采用小班授課模式。名額有限,欲報(bào)從速。

4、如報(bào)名人數(shù)未達(dá)最低開課標(biāo)準(zhǔn),武漢宇熠將取消或延遲本門課程, 具體情況以開課前一周通知為準(zhǔn)。

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