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    [技術(shù)]用于AR/MR的光波導(dǎo)足跡分析 [復(fù)制鏈接]

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    摘要 7`n8 OR4  
    L.&Vi"M <@  
    用于增強或混合現(xiàn)實應(yīng)用的任何類型的光導(dǎo)系統(tǒng),其設(shè)計過程中的一個主要部分是用于輸入耦合器、輸出耦合器和出瞳擴(kuò)展器光柵區(qū)域的配置。為此,對光傳播以及發(fā)生的光柵相互作用進(jìn)行快速而簡單的概述非常有幫助:足跡分析。借助足跡和光柵分析工具,VirtualLab提供了一個強大的工具,可在此過程中為光學(xué)工程師提供支持。在本文檔中,討論了這個多功能工具的選項和功能。 N9hWx()v  
    t-{OP?cE1  
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    E*]L]vR  
    足跡和光柵分析工具 Tfs9< k>G#  
     足跡和光柵分析工具是光導(dǎo)工具箱黃金版的一個特色。 X7!A(q+h  
     它可以在開始功能區(qū)的光導(dǎo)部分進(jìn)行初始化。 #3jZ7RqzQ  
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    os+wTUR^  
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    操作工具的基本流程 e/l?|+m 6  
    iFT3fP'> 5  
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    步驟1:選擇要分析的設(shè)置。它可以通過布局設(shè)計工具生成,詳見: N^j''siB  
    M4]|(A  
    光導(dǎo)布局設(shè)計工具 438> )=  
    a.ME{:a%  
    但是請注意,足跡和光柵分析工具并不局限于特定的布局類型。您可以加載文件或直接從已經(jīng)打開的文檔中選擇一個文件。 Cf 8 - %  
    6/C  
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