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    [技術(shù)]《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》（第二版 精裝） [復(fù)制鏈接]

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    0F%/R^mw  
    內(nèi)容簡介 0O!A8FA0  
    Macleod軟件自帶的用戶手冊功能全面，其介紹涵蓋了軟件的方方面面，能夠使用戶快速的了解和熟悉軟件的基本操作。然而，為了順應(yīng)目前薄膜行業(yè)的需求，急需一本能夠契合軟件設(shè)計和實際加工需要的專業(yè)書籍，以能夠幫助薄膜領(lǐng)域的同行高效的完成相關(guān)工作，因此，我們特別推出了《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》。 vNQ|tmn  
    《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》（原著第二版）是世界著名光學(xué)薄膜專家Macleod先生40多年豐富工作經(jīng)驗的總結(jié)，結(jié)合當(dāng)前市場占有率極高的光學(xué)薄膜設(shè)計與分析軟件Essential Macleod，其內(nèi)容豐富，實用性強。書中不僅有成熟的光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)、計算公式和分析方法，還有關(guān)于光學(xué)薄膜技術(shù)討論和解決方案以及全面考慮了薄膜的設(shè)計、分析、制造等各方面問題，如第8章中40個經(jīng)典案例分析。本書共設(shè)置21章節(jié)，首先，從光學(xué)薄膜的基本理論出發(fā)（第2章），為大家介紹了設(shè)計一個薄膜所必備的基礎(chǔ)知識。其次，在第3至第7章主要介紹了Macleod軟件的相關(guān)操作，以幫助大家在較短的時間快速熟悉軟件操作界面。最后，從第9章至21章開始重點闡述軟件中的反演工程、提取光學(xué)常數(shù)、公差分析、薄膜顏色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模塊如何與實際相結(jié)合，從而使大家將理論知識與實際經(jīng)驗結(jié)合起來，對實際鍍膜提出實用的建議，以減少設(shè)計時間并降低生產(chǎn)成本。 ]p@q.P  
    薄膜光學(xué)涵蓋范圍很廣，書中并附設(shè)計光盤和參考文獻，有興趣者可依此深入研究，為精準起見，在不影響理解的情況下，盡最大可能保留原文意思。譯者希望本書能夠?qū)氖卤∧ば袠I(yè)的人員有所幫助，通過學(xué)習(xí)之后能夠較好地完成其所承擔(dān)的光學(xué)任務(wù)。然而由于個人能力之局限，書中錯誤紕漏之處在所難免，本書若有不周之處，尚請讀者不吝賜教。 dAr=X4LE  
    +7 mUX  
    訊技科技股份有限公司
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    目錄 lyzM?lK-  
    Preface 1 rM`z2*7%d  
    內(nèi)容簡介 2 98Y1-Z^ .  
    目錄 i 717OzrF}A?  
    1  引言 1 NpH:5hi  
    2  光學(xué)薄膜基礎(chǔ) 2 4jw q$G  
    2.1  一般規(guī)則 2 =bOMtQ]  
    2.2  正交入射規(guī)則 3 *pYawT  
    2.3  斜入射規(guī)則 6 Ov;q]Vn>  
    2.4  精確計算 7 =>- W!Of  
    2.5  相干性 8 e8 c.&j3m  
    2.6 參考文獻 10 jG%J.u^k  
    3  Essential Macleod的快速預(yù)覽 10 X2mZ~RB(p  
    4  Essential Macleod的特點 32 ZfibHivz  
    4.1  容量和局限性 33 XG!^[ZDs  
    4.2  程序在哪里？ 33 mYFc53B  
    4.3  數(shù)據(jù)文件 35 lE8(BWzw  
    4.4  設(shè)計規(guī)則 35 _LFABG=  
    4.5  材料數(shù)據(jù)庫和資料庫 37 p{x6BVw?>  
    4.5.1材料損失 38 `0`#Uf_/$  
    4.5.1材料數(shù)據(jù)庫和導(dǎo)入材料 39 lXRB"z  
    4.5.2 材料庫 41 c1xX)cF  
    4.5.3導(dǎo)出材料數(shù)據(jù) 43 (_R!:H(]m  
    4.6  常用單位 43 ? CU;  
    4.7  插值和外推法 46 -Dwe,N"{2  
    4.8  材料數(shù)據(jù)的平滑 50 /jSb ^1\  
    4.9 更多光學(xué)常數(shù)模型 54 ma6Wr !J  
    4.10  文檔的一般編輯規(guī)則 55 }O\g<ke:u  
    4.11 撤銷和重做 56 N}Or+:"O:q  
    4.12  設(shè)計文檔 57 P6)d#M  
    4.10.1  公式 58 \Rw^&;\1  
    4.10.2 更多關(guān)于膜層厚度 59 Pf~0JNnc  
    4.10.3  沉積密度 59 Rl'xEtaN  
    4.10.4 平行和楔形介質(zhì) 60 j:$Z-s  
    4.10.5  漸變折射率和散射層 60 M