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    [技術]雙折射晶體偏振干涉效應 [復制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 01-18
    簡介: UDI\o1Rbp  
    2A\b-;4EP  
    本文的目的是介紹FRED的材料性質方面一些高級的設定,這些設定共分成以下幾個部份。 F\r"Y)|b=  
    雙折晶體偏振干涉 GM2}]9  
    光源偏振設置 B2kZ_4rB  
     雙折射材料方向和其他設定 :6(\:  
     干涉結果和光線性質查看 %/uLyCUZ  
     漸變折射率(GRIN)材料 #HgN wM  
     腳本設置漸變折射率材料 q%x i>H.:{  
     定性模擬結果 Sesdhuy.@  
    Z|C,HF+m.  
    雙折射晶體和偏振光干涉 k( Sda>-  
    gbzBweWF  
    偏振光干涉現象在實際中有很多應用,這里要模擬的是一種典型的雙折射干涉實驗,設置如下圖所示:左側是偏振光源,偏振方向是在xy平面且與x軸夾角45度,所有光線的反向延長線指向一點。接下來光線經過方解石平板,厚2mm,光軸方向沿z 軸。然后光線通過偏振片,偏振片方向與光源方向垂直(xy 平面,與x 夾角-45度),偏振片是通過設置偏振鍍膜來實現的。最右邊是接收分析面,光線在這里停止,用來計算光強。 lC#wh2B6  
    EK4%4<"  
    圖1. 系統(tǒng)設置
    y>=Y