1. 摘要
("m W=Ln H${Ym BG 隨著
光學投影系統(tǒng)和
激光材料加工單元等現(xiàn)代技術(shù)的發(fā)展，對光學
器件的專業(yè)化要求越來越高。
透鏡陣列',this.id)" style="cursor:pointer;border-bottom: 1px solid #FA891B;" id="rlt_1">微透鏡
陣列正是這些領域中一種常用元件。為了充分了解這些元件的光學特性，有必要對微透鏡陣列后各個位置的光傳播進行
模擬。在這個應用案例中，我們將分別研究元件后近場、焦區(qū)以及遠場特性。
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l3. Re, 0RM\ 
@yobT,DXi x7{,4js 2. 系統(tǒng)配置
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_ %<7!|" j >0S3P, 3. 系統(tǒng)建模模塊-組件
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X 4. 總結(jié)—組件……
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& 仿真結(jié)果
/? 2yo{F g F~RUb& */< 1. 場追跡結(jié)果—近場
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&QCqaJ- SHz& o[u 2. 場追跡結(jié)果—焦平面
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u%ih 7v!r\ D.$EvUSK<. 3. 場追跡結(jié)果—遠場
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