《光學(xué)光刻和極紫外光刻》

《光學(xué)光刻和極紫外光刻》是一本最新的光刻技術(shù)專著，內(nèi)容涉及該領(lǐng)域的各個(gè)重要方面。在介紹光刻技術(shù)應(yīng)用上，涵蓋了全面又豐富的內(nèi)容；在論述光刻技術(shù)的物理機(jī)制和數(shù)學(xué)模型時(shí)，采用了完整而不繁瑣的方法，增加了可讀性。本書在系統(tǒng)地闡述了光學(xué)光刻技術(shù)的基本內(nèi)容后，還專門開辟章節(jié)，介紹了最先進(jìn)的極紫外光刻技術(shù)的特點(diǎn)和難點(diǎn)，揭示了極紫外光刻的技術(shù)奧秘。本書具有全面、完整、翔實(shí)和新穎的特點(diǎn)，它凝聚了作者三十多年光刻領(lǐng)域科研和教學(xué)的精華。 [H2su|rBI`  
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第1章光刻工藝概述 "x
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1.1微型化：　從微電子到納米技術(shù)_1 L_=3`xE _  
1.2光刻技術(shù)的發(fā)展史_3 &';@CeK  
1.3投影光刻機(jī)的空間成像_5 "?Jf#  
1.4光刻膠工藝_10 (<|1/^~=  
1.5光刻工藝特性_12 PJh9
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1.6小結(jié)_18 25;`yB$  
參考文獻(xiàn)_18 L$ju~0jl)%  
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第2章投影光刻的成像原理 368H6 Jj  
2.1投影光刻機(jī)_20 od3b,Q