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- 注冊時間2020-06-19
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摘要 0ZV)Y<DJ n]@+<TA<uA VirtualLab可用于分析任意光柵類型。斜光柵在復雜光學系統(tǒng)中已經(jīng)可以實現(xiàn),并且其重要性在提高。斜光柵通過特殊光學介質實現(xiàn),以此定義其一般性的幾何結構。而且,幾個高級規(guī)格選項可用,例如,添加一個完整和部分涂層。這個案例解釋了配置的可用選項,并且討論了其對光柵結構的影響。 9Yowz]') [hS?d.D j]<T\O>t> (;a
O% 介質目錄中的斜光柵介質 va8V{q@t' szwXr 8P!dk5,,O *[7,@S/<F 內置斜光柵介質可以在VirtualLab的嵌入的介質目錄中找到。 m=S[Y^tR 可用于設置復雜光學光柵結構(所謂的堆棧)和傅里葉模式法(FMM)分析。 <P5;8 0{Kl5>Z9M 斜光柵介質的編輯對話框 dTaR8i LZG^\c$ -i'T!Qg1 Q[p0bD: 斜光柵介質為周期性結構自定義提供很多選項。 xIrpGLPSh 首先,光柵脊和槽的材料必須在基礎參數(shù)選項中定義。 8'B\%.+"8e 這些材料既可以從材料目錄選擇,也可以通過折射率定義。 asW1GZO 斜光柵介質的編輯對話框 2ezuP F $YSD%/c $#@4i4TN-
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