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    [分享]光學仿真軟件FRED應用于側(cè)入光式的背光模塊 [復制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2021-09-24
    請問FRED這套軟件針對一般光源側(cè)入光式的背光模塊是否可以詳細仿真光源透過LGP上面油墨印刷后的光源軌跡(整個面的光均勻度)?LGP上會印刷光學級油墨點(Pattern),我們會控制Pattern直徑的大小,來控制整個背光模塊的均勻性,是否有側(cè)入光式的范例(LGP Pattern 光學仿真軌跡)? <H_LFrB$W