中科院合肥研究院采用高能電子束直接高效合成宏觀厚度三維多孔石墨烯晶體膜

發(fā)布:cyqdesign 2021-06-29 08:58 閱讀:860
近日,中科院合肥研究院固體所王振洋研究員課題組在宏觀厚度三維多孔石墨烯薄膜的大面積制備研究方面取得了新進(jìn)展。研究人員以高能電子束作為能量源,利用電子束流的高動(dòng)能和低反射特性,將聚酰亞胺前驅(qū)體直接原位誘導(dǎo)轉(zhuǎn)化為厚度高達(dá)0.66 mm的三維多孔石墨烯晶體膜。相關(guān)研究成果以“E-beam direct synthesis of macroscopic thick 3D porous graphene films”為題發(fā)表在Carbon期刊上。 w$E8R[J~P  
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石墨烯由于其特殊的物理與化學(xué)特性,被認(rèn)為是新的戰(zhàn)略性材料。近年來,雖然制備手段在不斷進(jìn)步,但是由于二維石墨烯片的團(tuán)聚傾向,其在規(guī)模化應(yīng)用上依然存在巨大難題。構(gòu)筑三維多孔結(jié)構(gòu)石墨烯可以有效防止片層重新堆疊,且有利于電解液離子的傳輸與擴(kuò)散,在能源材料與器件領(lǐng)域具有重要應(yīng)用前景。然而,宏觀厚度三維多孔石墨烯晶體膜的高效合成仍然是一個(gè)挑戰(zhàn)。 {x&"b