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    [分享]高NA物鏡聚焦的分析 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2021-05-19
    摘要 &!#2ZJ}{  
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    高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對(duì)這種鏡頭進(jìn)行光線追跡和場追跡分析非常方便。通過場追跡，可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機(jī)探測(cè)器和電磁場探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。 S-,kI  
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    建模任務(wù) e[p^p!a  
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    概觀 Nh :JU?h  
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    光線追跡仿真 ]-rczl|o  
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    •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。 Fj3^ #ly  
    G4);/#  
    •點(diǎn)擊Go！ g1dmkX  
    •獲得3D光線追跡結(jié)果。 )+k[uokj  
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