切換到寬版
  • 廣告投放
  • 稿件投遞
  • 繁體中文
    • 765閱讀
    • 0回復

    [分享]高NA物鏡聚焦的分析 [復制鏈接]

    		 上一主題 下一主題
    離線infotek
     
    發(fā)帖
    5495
    光幣
    21639
    光券
    0
    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2021-05-19
    摘要 2IM 31 .  
    ojlyW})$%  
    高NA物鏡廣泛用于光學光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對這種鏡頭進行光線追跡和場追跡分析非常方便。通過場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應。相機探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應。 of_y<dd[G  
    *@PM,tS;  
    g;p} -=  
    >L!c} Ku  
    建模任務 I_z(ft.  
    3BCD0 %8  
    pk.\IKlG]  
    概觀 7p