切換到寬版
  • 廣告投放
  • 稿件投遞
  • 繁體中文
    • 766閱讀
    • 0回復(fù)

    [分享]高NA物鏡聚焦的分析 [復(fù)制鏈接]

    		 上一主題 下一主題
    離線infotek
     
    發(fā)帖
    5495
    光幣
    21639
    光券
    0
    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2021-05-19
    摘要 J% B(4`  
    A@@Z?t.  
    高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對這種鏡頭進(jìn)行光線追跡和場追跡分析非常方便。通過場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機(jī)探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。 T/V 5pYl  
    S*o%#ZJN  
    &oWdBna"_  
    F:8cd^d~u  
    建模任務(wù) F1@gYNbI,  
    T/%s7!E  
    K4vl#*qn  
    概觀 1or4s{bmo  
    ?PIOuN=  
    *Mt's[8  
    光線追跡仿真 pP&TFy#G+'  
    T j7i#o  
    •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。 a& Ti44a[  
    89>U Koc?  
    •點(diǎn)擊Go！ (8<U+)[tPy  
    •獲得3D光線追跡結(jié)果。 /x6,"M[97  
    9: bC{n  
     zY<=r.m4  
    m~fA=#l l  
    光線追跡仿真 +h6c Aqm]  
    |wKC9