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    [分享]光學(xué)仿真軟件FRED應(yīng)用于側(cè)入光式的背光模塊 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2020-12-28
    請問FRED這套軟件針對一般光源側(cè)入光式的背光模塊是否可以詳細(xì)仿真光源透過LGP上面油墨印刷后的光源軌跡(整個(gè)面的光均勻度)？LGP上會印刷光學(xué)級油墨點(diǎn)(Pattern)，我們會控制Pattern直徑的大小，來控制整個(gè)背光模塊的均勻性，是否有側(cè)入光式的范例(LGP Pattern 光學(xué)仿真軌跡)？ %k%%3L,  
    ^H"o=K8=  
    Ans:可以，光學(xué)仿真軟件-FRED可以進(jìn)行側(cè)入光式的背光模塊仿真分析。 wE[gp+X~  
    vf&_ N  
    如下圖，并且可利用ARRAY的方法快速的布置重復(fù)式網(wǎng)點(diǎn)     (+yH   
    vtq$@#?~ b  
    {FQ@eeU  
    :V3z`}Rl  
    在FRED可以設(shè)定散射表面，而油墨本身就是一種散射表面，如下 JDJ"D\85  
    N0DzFXp  
    K| dI'TnW  
    dI%?uk  
    光線追跡： ]p8 zT|bv  
    xi51,y+(5  
    3CzF@t;5  
    也可以加上BEF片的模擬     li hIPMU  
    NnH]c+  
    w73?E#8  
    模擬結(jié)果 _tUh*"e&  
    _ amP:h  
    =t^jlb  
    QQ：2987619807
     -MRX@