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請問FRED這套軟件針對一般光源側(cè)入光式的背光模塊是否可以詳細仿真光源透過LGP上面油墨印刷后的光源軌跡(整個面的光均勻度)?LGP上會印刷光學級油墨點(Pattern),我們會控制Pattern直徑的大小,來控制整個背光模塊的均勻性,是否有側(cè)入光式的范例(LGP Pattern 光學仿真軌跡)? ^^
j/ ni0LQuBp Ans:可以,光學仿真軟件-FRED可以進行側(cè)入光式的背光模塊仿真分析。 k.{G&]r{ J=P;W2L 如下圖,并且可利用ARRAY的方法快速的布置重復式網(wǎng)點 +3HPA#A 8GW ut=D 5m3'Gt4 b_mWu@$ 在FRED可以設定散射表面,而油墨本身就是一種散射表面,如下 7*g(@d N&N 82OG :f]!O@.~ um}N%5GAa 光線追跡: 9;pzzZ @e={Wy+Vm( V^ Y*xZ 也可以加上BEF片的模擬 776 nWw) (L:`ojiU 3z$HKG 模擬結(jié)果 Hp*gv/0 Z]p8IH%~92 aulaX/'-_
QQ:2987619807 QglYU
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