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請(qǐng)問(wèn)FRED這套軟件針對(duì)一般光源側(cè)入光式的背光模塊是否可以詳細(xì)仿真光源透過(guò)LGP上面油墨印刷后的光源軌跡(整個(gè)面的光均勻度)？LGP上會(huì)印刷光學(xué)級(jí)油墨點(diǎn)(Pattern)，我們會(huì)控制Pattern直徑的大小，來(lái)控制整個(gè)背光模塊的均勻性，是否有側(cè)入光式的范例(LGP Pattern 光學(xué)仿真軌跡)？ {wwkbc*
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Ans:可以，光學(xué)仿真軟件-FRED可以進(jìn)行側(cè)入光式的背光模塊仿真分析。 G'c6%;0)
gH<A.5 xy
如下圖，并且可利用ARRAY的方法快速的布置重復(fù)式網(wǎng)點(diǎn) &wea]./B h4geoC_W2 ^"!)p2=
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在FRED可以設(shè)定散射表面，而油墨本身就是一種散射表面，如下 + )lkHv$R
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光線追跡： <4,LTB]9-
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也可以加上BEF片的模擬 ]
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