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摘要 yGa0/o18!? R{g=
N%O 在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中,晶片檢測系統(tǒng)用于檢查晶片上的缺陷并找到它們的位置。為保證微結(jié)構(gòu)的圖像解析度,檢測系統(tǒng)常使用一個高NA的物鏡,工作在紫外波長范圍。作為一個例子,模擬了一個完整的晶片檢測系統(tǒng),包括高NA聚焦效應(yīng)和光與微結(jié)構(gòu)的互作用,并演示了圖像的形成。 mskG2mA 4Mt3<W5 q[s,q3n~ 建模任務(wù) b}!
cEJY 2F4<3k!& 5CI{&E 結(jié)果 'uu*DgEr de:@/-|
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