切換到寬版
  • 廣告投放
  • 稿件投遞
  • 繁體中文
    • 971閱讀
    • 0回復(fù)

    [推薦]用于微結(jié)構(gòu)晶片檢測(cè)的光學(xué)系統(tǒng) [復(fù)制鏈接]

    		 上一主題 下一主題
    離線infotek
     
    發(fā)帖
    5495
    光幣
    21639
    光券
    0
    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2020-09-29
    摘要 -&Z!b!jN  
    hOY@vm&  
    在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中，晶片檢測(cè)系統(tǒng)用于檢查晶片上的缺陷并找到它們的位置。為保證微結(jié)構(gòu)的圖像解析度，檢測(cè)系統(tǒng)常使用一個(gè)高NA的物鏡，工作在紫外波長(zhǎng)范圍。作為一個(gè)例子，模擬了一個(gè)完整的晶片檢測(cè)系統(tǒng)，包括高NA聚焦效應(yīng)和光與微結(jié)構(gòu)的互作用，并演示了圖像的形成。 b=,B Le\  
     #ibwD:{  
    wJy]Vyd  
    建模任務(wù) #\0m(v  
    3~~X,ZL  
    S,c{LTL  
    結(jié)果