1. 摘要
[zO >R5qhVYFb 高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦
仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。
VirtualLab可以非常便捷地對此類
鏡頭進(jìn)行
光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對稱現(xiàn)象。利用
相機(jī)探測器和電磁場探測器能夠?qū)劢箙^(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對矢量效應(yīng)的理解。
=4RBHe 8` B3
mD0 
V24
