摘要：為了解決傳統(tǒng)白光干涉測(cè)量技術(shù)中對(duì)線性位移機(jī)構(gòu)的位移精度要求過(guò)高的問(wèn)題，本文提出了一種全視場(chǎng)外差白 光干涉測(cè)量技術(shù)。該技術(shù)主要通過(guò)使用存在差頻的白光干涉信號(hào)作為光源來(lái)實(shí)現(xiàn)在大掃描步長(zhǎng)和低掃描精度條件下相 干峰位置的高精度檢測(cè)。本文首先建立了白光外差干涉的數(shù)學(xué)模型，再根據(jù)數(shù)學(xué)模型提供的光強(qiáng)信號(hào)特性提出了整體 系統(tǒng)設(shè)計(jì)方案，然后對(duì)測(cè)量方案的可行性進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證。最后針對(duì)多種誤差對(duì)算法計(jì)算精度的影響進(jìn)行了理論分析 和數(shù)據(jù)對(duì)比。誤差分析的結(jié)果表明：白光外差干涉測(cè)量技術(shù)提供更高的測(cè)量精度和更好的抗干擾性能，有效地降低了 傳統(tǒng)白光干涉測(cè)量對(duì)線性位移機(jī)構(gòu)精度的嚴(yán)苛依賴，為光學(xué)自由曲面檢測(cè)技術(shù)提供了更多的可選解決方案。 V4f ~#Tp
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關(guān)鍵詞：外差干涉測(cè)量；白光干涉測(cè)量；干涉測(cè)量算法
