泛林和ASML研發(fā)EUV新技術(shù):可減少90%光刻膠用量

發(fā)布:cyqdesign 2020-02-29 22:03 閱讀:8780
近日,美國泛林公司宣布與 ASML 阿斯麥、 IMEC 比利時微電子中心合作開發(fā)了新的EUV 光刻技術(shù),不僅提高了 EUV 光刻的良率、分辨率及產(chǎn)能,還將光刻膠的用量最多降至原來的 1/10 ,大幅降低了成本。 7Du1RuxP  
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泛林 Lam Research 的名字很多人不清楚, 前不久中芯國際宣布的 6 億美元半導(dǎo)體設(shè)備訂單就是購買的泛林的產(chǎn)品 。 #%3rTU  
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泛林是一家美國公司,也是全球半導(dǎo)體裝備行業(yè)的巨頭之一,與應(yīng)用材料、 KLA 科磊齊名, 2019 年營收 95 億美元,在全球半導(dǎo)體裝備行業(yè)位列第四,僅次于 ASML 、 TEL 日本東京電子及 KLA 。 hv$yV%.`  
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