泛林和ASML研發(fā)EUV新技術(shù)：可減少90%光刻膠用量

近日，美國(guó)泛林公司宣布與 ASML 阿斯麥、 IMEC 比利時(shí)微電子中心合作開發(fā)了新的EUV 光刻技術(shù)，不僅提高了 EUV 光刻的良率、分辨率及產(chǎn)能，還將光刻膠的用量最多降至原來的 1/10 ，大幅降低了成本。 ahJ-T@  
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泛林 Lam Research 的名字很多人不清楚， 前不久中芯國(guó)際宣布的 6 億美元半導(dǎo)體設(shè)備訂單就是購(gòu)買的泛林的產(chǎn)品 。 nrFuhW\r  
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泛林是一家美國(guó)公司，也是全球半導(dǎo)體裝備行業(yè)的巨頭之一，與應(yīng)用材料、 KLA 科磊齊名， 2019 年?duì)I收 95 億美元，在全球半導(dǎo)體裝備行業(yè)位列第四，僅次于 ASML 、 TEL 日本東京電子及 KLA 。 :2v^pg|  
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