[分享]VirtualLab：高NA物鏡聚焦的分析 [復(fù)制鏈接]

摘要 Jz>P[LcB  
B*mZxY1  
高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對(duì)這種鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析非常方便。通過場(chǎng)追跡，可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。 .:f ao'  
O
|+Z
EBP  

圖片:1-1Q210141S0B6.png

m3Wc};yE*Q  
v0dzM/?*  
建模任務(wù) T)sIV5bk  
rP'%f 6  

圖片:1-1Q210141Z3L0.png

HEbL'fw^s  
概觀 y705  
%6 Av1cv  

圖片:1-1Q21014202H61.png

?k4Hk$V  
光線追跡仿真 -%Vh-;Ie(  
'g,_