摘要：深紫外光刻是目前集成電路制造的主流方法，為實現(xiàn)更小的元件特征尺寸，必須采用浸沒式投影物鏡以提高光學(xué)系統(tǒng)的分辨率，由此向其中的薄膜光學(xué)元件提出了眾多苛刻的要求。本文的討論由此展開：介紹了適用于浸沒式光刻系統(tǒng)的薄膜材料及膜系設(shè)計，以及高NA光學(xué)系統(tǒng)所需的大角度保偏膜系；物鏡中最關(guān)鍵的元件為浸液元件，對浸液薄膜的液體環(huán)境適應(yīng)性及疏水、防污染等關(guān)鍵問題進(jìn)行了討論；激光輻照壽命是衡量浸沒式光刻系統(tǒng)性能的重要因素，對鍍膜元件的激光輻照性能，尤其是浸液環(huán)境下的元件輻照壽命進(jìn)行了分析。 z7|
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關(guān)鍵詞 ： 浸沒式光刻, 光學(xué)薄膜, 膜系設(shè)計, 環(huán)境適應(yīng)性, 激光輻照壽命
