超黑納米鍍膜：新一代吸光消光技術(shù)

傳統(tǒng)黑色吸光消光技術(shù)

在所有光學(xué)成像、探測(cè)、傳感或顯示的儀器或元件中，雜散光的消除，以及光學(xué)噪音的降低，對(duì)提高產(chǎn)品的質(zhì)量、獲取精準(zhǔn)的數(shù)據(jù)等具有重要意義。傳統(tǒng)黑色消光表面處理工藝，包括噴涂黑色涂料、黑色陽(yáng)極氧化、電泳電鍍、化學(xué)發(fā)黑等，這些傳統(tǒng)工藝伴隨著光學(xué)行業(yè)的發(fā)展已經(jīng)得到了廣泛的應(yīng)用，在光學(xué)領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。

但隨著現(xiàn)代精密光電元件和儀器在各個(gè)行業(yè)的應(yīng)用越來越深入，市場(chǎng)對(duì)產(chǎn)品品質(zhì)和精度的要求越來越高，傳統(tǒng)消光工藝的缺點(diǎn)日益暴露，已無法滿足產(chǎn)品和市場(chǎng)的要求。

首先，傳統(tǒng)工藝在可見光波段反射率太高，普遍在10%以上，紅外波段反射率更高，無法有效消除雜散光對(duì)光學(xué)系統(tǒng)的影響；

其次，傳統(tǒng)工藝精度差、且可靠性不足；

第三，傳統(tǒng)工藝適用的基材種類也有局限，產(chǎn)品選材因此受到限制； 

第四，傳統(tǒng)工藝都是有污染排放不環(huán)保的工藝。

以上這些缺點(diǎn)極大地制約了產(chǎn)品質(zhì)量的提升，也越來越無法滿足當(dāng)今市場(chǎng)的要求。在這種背景下，全新的高科技、高精度、高品質(zhì)和超高吸收率的吸光消光技術(shù)的開發(fā)就非常迫切并具有重要意義

新一代技術(shù)：超黑納米鍍膜

超黑寬波段吸光消光納米鍍膜技術(shù)，是深圳市精石納米技術(shù)有限在國(guó)內(nèi)率先推出的最新科技，是新一代工業(yè)化的吸光消光技術(shù)。該技術(shù)采用獨(dú)特的綠色環(huán)保高真空沉積工藝，在幾乎任何基材的光學(xué)零件表面制備微米級(jí)的性能優(yōu)良的超黑納米涂層，總半球反射率可以低至0.5%以下，對(duì)入射光的吸收率超過99.5%，擁有最佳的廣譜吸光消光效果，達(dá)到了國(guó)際先進(jìn)水平，成功實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)替代，也解決和突破了關(guān)鍵技術(shù)的卡脖子難題，有著非常重要的技術(shù)、經(jīng)濟(jì)和社會(huì)價(jià)值。

超黑納米鍍膜是在高真空環(huán)境下，控制特殊恰當(dāng)?shù)姆肿踊鶊F(tuán)，在活性材料表面分子層沉積并生長(zhǎng)制備出幾百至幾千納米厚度的薄膜材料。該微米級(jí)的薄膜層可以將從紫外、到可見、再到紅外的全波段入射光線以可控的吸收率全部吸收而不反射，從而根據(jù)吸收率的不同形成各種黑色外觀： 黑色：半球反射率4%，吸收率96%， 深黑：半球反射率＜3%，吸收率97.5%， 超黑：半球反射率＜1%，吸收率99.5%。

超黑納米鍍膜的基本特點(diǎn)：

 1、高真空高能量制備，結(jié)合力好，低溫沉積；

 2、高精密度，厚度只有幾百納米至幾千納米；

 3、純無機(jī)材料，可以在-350至380°C高低溫下工作；

 4、無任何雜質(zhì)顆�；驌]發(fā)物產(chǎn)生，穩(wěn)定可靠，耐候性好；  

5、可鍍制在金屬、塑料、玻璃、陶瓷等任何材料表面；  

6、可鍍制在平面或立體零件上，也可以鍍制在柔性薄膜表面；  

7、純環(huán)保綠色技術(shù)，無任何污染物產(chǎn)生。