小火龍果 |
2024-07-19 16:58 |
SYNOPSYS 光學(xué)設(shè)計(jì)軟件課程七十九:反射式光刻物鏡設(shè)計(jì)
一.概述 ;@/vKA3l. 隨著光刻分辨率的不斷提高,光學(xué)光刻機(jī)中采用的投影物鏡結(jié)構(gòu)型式經(jīng)歷了演變和篩選過程。在早期的低分辨率光刻機(jī)中,全反射型、全折射型、折反射型多種結(jié)構(gòu)型式并存:在目前的高分辨率光刻機(jī)中,全折射式結(jié)構(gòu)型式是主流。 G|LcTV 8C4v 與全折射式結(jié)構(gòu)型式相比,折反射式結(jié)構(gòu)的投影物鏡具有許多優(yōu)越的光學(xué)性能,但其在光刻機(jī)中的真正使用尚需克服許多技術(shù)問題。在現(xiàn)代高分辨率光學(xué)光刻機(jī)中,投影物鏡的結(jié)構(gòu)型式大致分為兩類:全折射型和折反射型。 KY9&Ky+2
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