偏振三維成像技術(shù)的原理和研究進展

近年來偏振三維成像技術(shù)因具有精度高、作用距離遠和受雜散光影響小等特點得以蓬勃發(fā)展，但利用目標(biāo)反射光偏振特性進行法向量精確求解的問題一直沒有真正得到解決，成為制約該技術(shù)發(fā)展的瓶頸。此外，由于目標(biāo)表面鏡面反射光與漫反射光間的相互干擾，造成高精度偏振三維成像實現(xiàn)困難。該綜述介紹了偏振三維成像物理機理、目標(biāo)表面出射光偏振特性，以及偏振三維成像研究進展。最后總結(jié)了目前偏振三維成像面臨的問題和未來的發(fā)展方向。