郭培基，余景池，丁澤釗，孫俠菲（蘇州大學 現(xiàn)代光學技術研究所，江蘇 蘇州 215006）摘自《光學技術》
OiMr, 摘要：高質(zhì)量的透射光學系統(tǒng)對光學材料的光學均勻性要求非常高，材料局部折射率10-6量級的變化就可能破壞整個系統(tǒng)的性能。詳細介紹了三種用于測量光學玻璃光學均勻性的干涉法，研制了一臺高精度光學玻璃材料光學均勻性測量儀。實驗結果表明：40mm左右厚的光學玻璃材料的光學均勻性檢測精度可達1×10-6。
PW GN UNc 關鍵詞：環(huán)行浮動拋光技術；工藝實驗；透射波前；反射波前
EMMp4KKOx+ 中圖分類號：TH706
1|xo4fmV 文獻標識:A 1c}LX.9
