[分享]光學(xué)材料研磨亞表面損傷的快速檢測(cè)及其影響規(guī)律 [復(fù)制鏈接]

摘要：提出了一種光學(xué)材料研磨亞表面損傷的非破壞性快速檢測(cè)方法�；�于印壓斷裂力學(xué)理論建立了亞表面損傷深度與表面粗糙度的關(guān)系模型。使用磁流變拋光斑點(diǎn)技術(shù)測(cè)量了 K9 玻璃在不同研磨條件下的亞表面損傷深度，并驗(yàn)證了上述模型。最后,分析了研磨加工參數(shù)對(duì)亞表面損傷深度的影響規(guī)律,提出了高效率的研磨加工策略。研究表明:光學(xué)材料研磨后亞表面損傷深度與表面粗糙度成單調(diào)遞增的非線性關(guān)系，即 SSD~ SR4/ 3。磨粒粒度對(duì)亞表面損傷深度的影響最顯著,研磨盤(pán)硬度的影響次之， 而研磨壓力和研磨盤(pán)公轉(zhuǎn)速度的影響基本可以忽略。利用建立的亞表面損傷深度與表面粗糙度間的關(guān)系模型能夠?qū)崿F(xiàn)亞表面損傷深度的快速、 準(zhǔn)確和非破壞性檢測(cè)。 8ITdS
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關(guān)鍵詞：光學(xué)材料；研磨;磁流變拋光；光學(xué)檢驗(yàn)；亞表面損傷

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