介紹了以光時域
反射儀（OTDR）為代表的
光學鏈路連續(xù)分布
參數的的反射式
測量技術。在闡明OTDR基本測量
原理和實現方式的基礎上，著重討論了時域相關測量，頻域測量和干涉測量技術各自的特點及對測量精度的改進。
!KlSw,&=.6 OLR1/t`V 一、概述
<V8i>LBlz GB+d0 S4 光學分布探測是一種適用于
光纖等連續(xù)光學鏈路的特征參數測量的技術。反射式分布探測是基于測量光背向散射信號，由光傳輸特性的變化來探測、定位和測量光纖鏈路上因熔接、連接器、彎曲等造成的光學性能改變。光時域反射儀OTDR是這種技術的典型應用。OTDR可以測量整個光纖鏈路的衰減并提供與長度有關的衰減細節(jié),測量具有非破壞性、測量過程快速方便、結果準確直觀的特點。因此在生產、研究以及通信等領域有廣泛應用。為了提高測量性能，在OTDR的基礎上提出了時域相關測量，頻域測量和干涉測量等改進的測量技術。
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