一．概述
Q^_/ By@ 隨著光刻分辨率的不斷提高，
光學(xué)光刻機中采用的投影物鏡結(jié)構(gòu)型式經(jīng)歷了演變和篩選過程。在早期的低分辨率光刻機中，全反射型、全折射型、折反射型多種結(jié)構(gòu)型式并存：在目前的高分辨率光刻機中，全折射式結(jié)構(gòu)型式是主流。
H+ C6[W= t?)pl 2!A 與全折射式結(jié)構(gòu)型式相比，折反射式結(jié)構(gòu)的投影物鏡具有許多優(yōu)越的光學(xué)性能，但其在光刻機中的真正使用尚需克服許多技術(shù)問題。在現(xiàn)代高分辨率光學(xué)光刻機中，投影物鏡的結(jié)構(gòu)型式大致分為兩類：全折射型和折反射型。
}1H=wg>\ , |T7hTn= 全折射型投影物鏡是指只含有
透鏡的投影物鏡，而折反射型投影物鏡則是同時含有透鏡和反射鏡的投影物鏡。
, c;eN s0W2?!>) 二．SYNOPSYS自由曲面設(shè)計功能
!<\Br 受限于EUV（極紫外光）使用的波長為13.5nm，由于該波段的光幾乎沒有光學(xué)材料可以透過，因此為了使用更短的波長，此類光刻物鏡只能采用完全反射式進(jìn)行設(shè)計。
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