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    [技術(shù)]高數(shù)值孔徑(NA)物鏡的聚焦分析 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 07-09
    1. 摘要 >~.Zr3P6kC  
       .jLMl*6%:  
    高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對(duì)此類鏡頭進(jìn)行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對(duì)稱現(xiàn)象。利用相機(jī)探測器和電磁場探測器能夠?qū)劢箙^(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對(duì)矢量效應(yīng)的理解。 ],H1  
    r.Y*{!t  
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    2. 建模任務(wù) 9k(*?!\;  
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       gcQ.  YP9  
    3. 概述 lNq:JVJ#\r  
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    uWJ#+XK.  
     示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡 ./7&_9| <  
     下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。 j|3g(_v4W  
    Usa{J:  
     2U=/<3;u  
    # q0Ub-  
    4. 光線追跡仿真 <O <'1uO,  
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    Pmqx ;  
     首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。 {m?K2]](  
     點(diǎn)擊“Go!”。 [Ihp\!xqI  
     隨即獲得3D光線追跡結(jié)果 ,\\%EZ%a  
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