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    [技術(shù)]高數(shù)值孔徑(NA)物鏡的聚焦分析 [復(fù)制鏈接]

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    1. 摘要 (5 hu W7v  
       #Xly5J  
    高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進(jìn)行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對稱現(xiàn)象。利用相機(jī)探測器和電磁場探測器能夠?qū)劢箙^(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對矢量效應(yīng)的理解。 M?lr#} d  
    X=~QE}x  
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    2. 建模任務(wù) r>o6}Mx$  
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       Cv33?l-8%_  
    3. 概述 } d6^  
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     示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡 dZ Z/(oE>  
     下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。 <KX#;v!I  
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    4. 光線追跡仿真 .+sIjd  
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     首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。 9"TPDU7"  
     點(diǎn)擊“Go!”。 }$jIvb,3?  
     隨即獲得3D光線追跡結(jié)果 (B5G?cB9  
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     然后，選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。 t|%ul6{gz  
     點(diǎn)擊“Go!”。 |EunDb[Y  
     隨即獲得點(diǎn)列圖(2D光線追跡結(jié)果)。 R}FN6cH  
    3V]a "C   
     E:AXnnGKO  
    5. 場追跡仿真 >b0}X)Z+U  
    N{0 D