-
UID:317649
-
- 注冊時間2020-06-19
- 最后登錄2024-10-23
- 在線時間1468小時
-
-
訪問TA的空間加好友用道具
|
摘要 2./3 \n2 rLX4jT^
在傳統(tǒng)的 Talbot 光刻中,在光敏層中僅使用一個圖像。 但是,可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個圖像。 在本案例中,按照 I.-H. Lee 等人在 VirtualLab Fusion 中使用傅里葉模態(tài)方法 (FMM,也稱為 RCWA) 對具有一層錐體的相位掩模進行建模?梢詸z測到不同的 Talbot 圖像,在主像平面中會再現(xiàn)柱狀圖案,而在次要像平面中再現(xiàn)孔圖案。 }@r{?8Ru L;od6<.*m PdVfO8- [{X^c.8G) 建模任務(wù) S~Id5T:, ,()0'h}n _.-;5M- 7-BvFEM; structure and material parameters from I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) j;Z?WXWDh :
|